Мобильная версия

Доступно журналов:

3 288

Доступно статей:

3 891 637

 

Скрыть метаданые

Автор A R Powell
Автор R A A Kubiak
Автор T E Whall
Автор D K Bowen
Дата выпуска 1990-12-14
dc.description This communication demonstrates the use of high precision X-ray diffraction together with dynamical X-ray simulation theory in the non-destructive characterization of an Sb delta doped layer in (100) Si. The width of the delta layer is determined to be <2 nm. Information is also obtained on the strain fields induced by the Sb delta layer, indicating a total lattice expansion in the (100) direction of 0.046 nm.
Формат application.pdf
Издатель Institute of Physics Publishing
Название X-ray diffraction characterization of Sb delta doping in Si
Тип lett
DOI 10.1088/0022-3727/23/12/040
Electronic ISSN 1361-6463
Print ISSN 0022-3727
Журнал Journal of Physics D: Applied Physics
Том 23
Первая страница 1745
Последняя страница 1747
Аффилиация A R Powell; Warwick Univ., Coventry, UK
Аффилиация R A A Kubiak; Warwick Univ., Coventry, UK
Аффилиация T E Whall; Warwick Univ., Coventry, UK
Аффилиация D K Bowen; Warwick Univ., Coventry, UK
Выпуск 12

Скрыть метаданые